硬質氧化

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鑄鋁硬質氧化

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鑄鋁硬質氧化


鑄鋁硬質氧化


硬質氧化膜的生成原理,與普通硫酸陽極氧化相同,但為了獲得質量好的的膜層,需要采用攝氏0度左右的電解液、高電壓和大電流的方法,使膜的生成速度遠大於溶解速度,使膜層結構發生變化,構成了硬質氧化膜生長過程的新特點。硬質氧化膜也是雙層結構,其區別在於比普通氧化膜的阻擋層厚度大10倍,孔壁也如此,這是硬度高的基本原因之一。然而孔隙率比普通氧化膜少7~8倍。隻有2%~6%,硬質膜基組雜亂無章互相幹擾,出現一種特殊的棱柱狀。導致膜內應力大,甚至引起開裂,合金元素和電解分解產物在膜壁中的殘留。引起氧化膜的色澤深暗及合金成分不同的顏色不同。合金成分和雜質,對硬質氧化有較大的影響,它影響氧化膜的均勻性和完整性,鋁銅、鋁矽。鋁猛合金,作硬質氧化比較因難。


製作硬質氧化注意事項:

1.製品上所有棱角應倒成直徑不小於0.5mm的圓弧,不允許有銳角及毛刺以避免電流集中造成局部過熱、變脆、斷裂。

2.不要求厚膜部位用過氯乙烯膠等加以保護,螺紋孔,定位銷孔用塑料或膠皮堵塞。

3.製品經硬質氧化後,尺寸增加約為膜厚的一半(單邊)所以對尺寸要求嚴格的製品,應根據膜厚確定其陽極氧化前的尺寸餘量。

4.氧化膜與基體結合牢固,但膜層有脆性,並隨厚度增加和增大,所以不宜用於承受衝擊,彎曲或變形的零件。達到一定厚度的硬質膜會使鋁合金的疲勞強度有較大的降低,進行硬質氧化應慎重。


鑄鋁硬質氧化


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